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SYSTÈMES PVD CLÉS EN MAIN 

Les systèmes PVD de Plasmionique, semi-automatisés ou entièrement automatisés, sont polyvalents et personalisables et intègrent une variété de technologies inhérentes au dépôt physique en phase vapeur. Tous les systèmes sont contrôlés par notre propre système de contrôle PLASMICON.

Les systèmes de dépôt par pulvérisation de la série MAGNION sont des unités clés en main personnalisées pour répondre aux exigences des utilisateurs finaux. Ils sont polyvalents et équipés avec des systèmes de contrôle et d'acquisition de données entièrement intégrés.

 

Les cathodes de pulvérisation de la série MAGNION propres à Plasmionique sont conçues pour une efficacité d'utilisation élevée de la cible et sont disponibles dans des configurations magnétiques équilibrées ou déséquilibrées dans des formes circulaires ou rectangulaires.  Les cathodes de magnétron sont capables de fonctionner en modes de polarisation DC, DC impulsionnel, AC ou RF.

En option, ces systèmes peuvent inclure une source plasma de la série PLUME opérant en post-décharge pour l'amélioration du dépôt par pulvérisation réactive. En option sur tous les systèmes, nous offrons des port-substrats rotatifs, chauffants, polarisables et qui assurent une translation axiale. Ces port-substrats sont contrôlés par ordinateur..

Les systèmes de la série MAGNION sont également proposés en tant que :

Systèmes de dépôt hybrides ;

Systèmes de dépôt rouleau à rouleau ; 

Systèmes de dépot de table ou Systèmes dépôt compact.

La série MAGNION
SYSTÈMES DE DÉPÔT PAR PULVÉRISATION MAGNETRON OU FAISCEAU-IONIQUE

Magnetron Sputter Deposition System

Caractéristiques typiques du système de pulvérisation 

Magnétrons de pulvérisation MAGNION

 

Porte-substrat/échantillon

Environnement de processus

Substrat/montage d'échantillon

Sources magnétrons/plasma

Exigences d'utilitaire  

  • Tailles cibles circulaires (diamètre) ou rectangulaires : 1", 2", 3" et 4" ;

  • Fonctionnement avec RF (13,56 MHz) DC ou DC impulsionnel ;

  • Géométries magnétiques équilibrées ou déséquilibrées ;

  • Boucliers et obturateurs contre la contamination croisée ;

  • Option de position axiale ou de tête orientable ;

  • Taille/forme de montage définie par l'utilisateur ;

  • Chauffage à plus de 850 ºC avec contrôle de température PID ou refroidissement ;

  • Rotation motorisée de l'échantillon et translation axiale ;

  • Polarisation (RF ou DC) disponible ;

  • Station de transfert d'échantillons à verrouillage de charge (en option) ;

  • Chambre en acier inoxydable, cylindrique verticale ou horizontale ;

  • Conception de porte d'accès ou de chambre cloisonnée ;

  • Vide jusqu'à 10-8 Torr avec pompe turbomoléculaire assistée d'une pompe mécanique à palettes (humide) ou à volutes (sèche) ;

  • Fonctionnement avec de l'oxygène ou des gaz corrosifs (en option) ;

  • Vacuomètres : manomètre à large plage et manomètre capacitif pour le contrôle de la pression de process ;

  • Série FLOCON Système de gestion de gaz pour plusieurs gaz ou vapeurs, avec régulateurs de débit massique, entièrement automatique et programmable pour le contrôle du mélange gazeux ;

  • Nombre de lignes de gaz et de débit massique avec vannes d'arrêt défini par l'utilisateur ;

  • Conduite de purge/évent avec soupape de surpression de sécurité.

  • Taille et forme d'échantillon défini par l'utilisateur ;

  • Chauffage à plus de 850 ºC avec contrôle de température PID ou refroidissement ;

  • Rotation motorisée et translation axiale motorisée ou manuelle ;

  • Polarisation (RF ou DC) disponible ;

  • Station de transfert d'échantillons à verrouillage de charge (en option).

  • Tailles cibles circulaires (diamètre) ou rectangulaires : 1", 2", 3" et 4" ;

  • Fonctionnement avec RF (13,56 MHz) DC ou Pulse-DC ;

  • Géométries magnétiques équilibrées ou déséquilibrées ;

  • Boucliers et volet contre la contamination croisée ;

  • Option de position axiale ou de tête orientable.

  • Électrique : typiquement 60/50Hz, 120 V monophasé à 380V 3 phases, 5 fils ;

  • Eau de refroidissement : généralement 1-4 gpm, 17-30 ºC, selon le système ;

  • Air instrument : 40-80 psig (3-5 bar) ;

  • Gaz de purge/ventillation, régulé ;

  • Gaz de procédé, régulés.

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