SYSTÈMES D'IMPLANTATION IONIQUE
Les implanteurs ioniques à base de plasma sont un substitut économique et polyvalent pour les applications d'ingénierie de surface, ainsi que pour le dopage à faible profondeur pour les applications nanoélectroniques et photoniques. L'implantation ionique en immersion plasma est un procédé de surface standard qui permet le traitement des structures ayant une topographie 3D.
Les implanteurs de la série PUPION (PUlsed Plasma ION) de Plasmionique peuvent fonctionner avec un plasma de travail continu et une tension de polarisation de substrat pulsée ou avec une polarisation constante et un plasma pulsé. L'option plasma pulsé est particulièrement utile lorsque l'implantation d'ions monoénergétiques est critique.
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Les systèmes PUPION ont démontré leur capacité à minimiser la contamination lors de l'implantation de radio-isotopes.
Une variété de techniques d'excitation plasma est proposée, en fonction de l'application requise. Les systèmes sont entièrement contrôlés par ordinateur combiné à un système d'acquisition de données intégré pour la surveillance des paramètres de processus en temps réel. L'enregistrement des données est également inclus.
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Les tensions mises en jeu peuvent atteindre 10 kV.
La Série PUPION
IMPLANTEUR À PLASMA PULSÉ
