Form-PVD | PLASMIONIQUE 2019

Nom

Affiliation et profession

Guide de sélection PVD

Courriel

Téléphone

Base

Description générale

Technique de dépôt

Pulvérisation magnétron

Ablation Laser Pulsé

Evaporation thermique (incl. faisceau d'électrons (e-beam))

Système hybride

Port-substrat

Pour le choix d'un mouvement planétaire, veuillez renseigner les champs suivants :

Nombre de sites sur le Carrousel

Taille du substrat (inclure les unités)

Distance Fixe ou Gamme Variable (inclure les unités)

Besoins en matière de chauffage et refroidissement

Options de magnétron(s) (le cas échéant)

Pour les magnétrons circulaires

Pour les magnétrons rectangulaires personnalisés

Taille de la cible du magnétron (inclure les unités)

Nombre de magnétrons

Nombre de générateurs RF

Nombre de générateurs DC

Nombre de générateurs DC pulsés

Nécessaire si une seule alimentation (ou générateur) doit être utilisée par plusieurs magnétrons

Options d'Ablation Induite par Laser pulsé (le cas échéant)

Nombre de sites sur le Carrousel

Options d'évaporation thermique (le cas échéant)

Nombre de nacelles

Capacité de la nacelle (inclure les units)

Nombre de générateurs pour nacelle thermique

Nombre de creusets e-Beam

Capacité du creuset e-Beam (inclure les units)

Nombre de générateurs pour e-Beam

Nombre d'évaporateurs à basse température

Capacité de l'évaporateur à basse température (inclure les units)

Nombre de générateurs pour évaporateur à basse température

Nécessaire si une seule alimentation (ou générateur) doit être utilisée par plus d'une source

Options additionnelles

Nombre de lignes de gaz

Diamètre de la source ICP (inclure les unités)

Une couronne d'injection de gaz supplémentaire en sortie de source améliore les performances des applications PECVD avec des gaz réactifs susceptibles de former des revêtements conducteurs.

Nombre de MCQ

Une MCQ (Microbalances à Cristal de Quartz) peut être utilisée pour monitorer la croissance du dépôt.

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