Systèmes de dépôt par évaporation thermique Série EVAD
EVAD

EVAD Series Thermal Vapour Deposition Systems
BROCHURE (PDF)

The simplest way to vaporise a solid is to heat the bulk to its evaporation temperature. The energy source for the heating may be either a resistive heating element or an electron beam.

For the high temperatures required for evaporating metals, boat sources or tungsten filaments are generally used at high current and low voltage, with the material in direct contact with the heat source.

For lower temperature evaporation of organic materials (for example), a Knudsen effusion cell (or K-cell) may be used, which involves heating the material in a crucible surrounded by a heating element.

An electron beam impinging on the target material may also be used for evaporation, and has advantages for some materials and applications.

EVAD Series thermal vapour deposition systems can incorporate any or all of these methods into a versatile tool with features as follows:

Sources d’évaporation:

  • Nacelles d’évaporation, paniers, et filaments pour métaux, jusqu’à 1800 °C de température et 500 W de puissance
  • Cellule d’éffusion Knudsen pour matériaux organiques
    • Choix du matériau de creuset et de la température la plus adaptée au matériel à déposer
    • Contrôle précis de la température (thermocouple type K) et contrôle PID
    • Obturateur avec contrôle manuel ou automatique
  • Canon à électrons disponible sur demande pour évaporation par faisceau d’électrons (e-beam)

Configuraton du substrat:

  • Substrat chauffant ou refroidis selon votre demande
  • Ajustement axial pour un meilleur contrôle de l’uniformité des dépôts et la vitesse de croissance
  • Obturateur avec contrôle manuel ou automatique

Environnement matériel:

  • Pompage turbomoléculaire ou cryogénique avec pompe mécanique sèche
  • Valve d’isolement manuel ou pneumatique

Contrôle du procédé:

  • Un système de contrôle et de commande de tous les paramètres basé sur LabVIEW®
  • Interface graphique intuitive
  • Alarmes et interlocks pour protéger le matériel et l’usager en cas d’usage inadéquat
  • Génération de graphiques en réel temps et enregistrement des données
  • Programmation multi-étapes pour les procédés complexes
  • Mesure de vitesse de croissance (par micro-balance à quartz) pour un contrôle en boucle des paramètres d’évaporation