Systèmes de dépôt par ablation laser pulsé (PLD)
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GLAZE series Pulsed Laser Deposition Systems
FLYER (PDF)

Pulsed Laser Deposition (PLD) uses the energy of a focussed laser beam to vaporise a solid target material into a glowing plasma plume. The ablated molecules are subsequently deposited onto a substrate located close to the plume. The main advantages of PLD are its simplicity and its ability to preserve the (often complex) stoichiometry of the target material in the deposited film.

Plasmionique’s GLAZE Series PLD Systems are designed for advanced thin film coating applications, and can combine additional features in the same vacuum chamber. Typical characteristics are shown below.

Manipulation des cibles laser:

  • Cibles plats et circulaires, diamètre (typique) 1 po. (25 mm)
  • Vitesse de rotation variable
  • Cible unique ou multi-cibles carrousel avec informatisé d’indexation
  • Obturateur avec contrôle manuel ou automatique

Configuraton du substrat:

  • Substrat chauffant ou refroidis selon votre demande
  • Substrat polarisible disponible
  • Séparation entre cible et substrat ajustable

Environnement matériel

  • Système de pompage turbomoléculaire (cryopompage également disponible)
  • Panneau de contrôle des differents gaz équipé de contrôleurs de débit massique (MFC) automatisé et programable pour la gestion des mélanges gazeux
  • Mesure de la pression par capteur de pression capacitif
  • Contrôle de pression automatique: en aval par vanne de laminage ou en amont par MFC

Contrôle du procédé:

  • Un système de contrôle et de commande de tous les paramètres basé sur LabVIEW®
  • Interface graphique intuitive
  • Alarmes et interlocks pour protéger le matériel et l’usager en cas d’usage inadéquat
  • Génération de graphiques en réel temps et enregistrement des données
  • Programmation multi-étapes pour les procédés complexes