Systèmes de dépôt physique en phase vapeur (PVD)

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est un procédé où le matériau à déposer est sous forme solide avant de subir une transformation physique (par opposition à une transfornation chimique) et d’être déposé. Le solide doit être évaporé pour permettre le transport de la matière depuis la source vers le substrat et former le revêtement. Les moyens les plus communs d’obtenir la phase vapeur sont:

  • La pulvérisation:
    • Pulvérisation cathodique magnétron
    • Pulvérisation par faisceau d’ions
  • Évaporation thermique:
    • Chauffage résistif (ohmique)
    • Chauffage par canon à électrons
  • Ablation Laser pulsé (PLD)

Plasmionique fournis des systèmes fonctionnant avec ces différentes méthodes. Notre gamme de produit PVD inclut:

Pour chaque application, Plasmionique proposera un système PVD configuré pour répondre à vos besoins.

Nous pouvons, sur demande, concevoir des systèmes polyvalents hybrides qui combinent plus d’une méthode dans le même réacteur. Contactez-nous pour plus d’informations.