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SYSTÈMES DE PULVÉRISATION
  
  Choisir votre magnétron  
 


Plasmionique vous propose 3 catégories génériques de cathodes magnétron planaires pour pulvérisateurs:

MAGNION-B
Une source magnétron balancée

MAGNION-UI
Une source magnétron non-balancée de type 1

MAGNION-UII
 Une source magnétron non-balancée de type 2

Magnétron Balancé 

Magnétron non-balancé (Type 2)

Magnétron non-balancé (Type 1)

 
 
 
 
  Conception de magnétrons pour une efficacité élevée d’utilisation de la cible  
 



La configuration du champ magnétique influence aussi l’efficacité d’utilisation de la cible.

Nos magnétrons non-balancés sont conçus pour produire des taux élevés d’utilisation de la cible. Par exemple pour une petite cathode de 2" (non-balancé Type 2) un taux d’utilisation excédant 50% est atteint. Des cibles de plus grand diamètre donnent une efficacité d’utilisation beaucoup plus élevée.

  

Exemple du profil d’utilisation d’une cible en cuivre de diamètre 2 pouces et d’épaisseur 1/4 pouce utilisée avec un magnétron conçu pour un haut taux d’utilisation de la cible.