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SYSTÈMES DE PULVÉRISATION
  
  Choisir votre magnétron  
 


Plasmionique vous propose 3 catégories génériques de cathodes magnétron planaires pour pulvérisateurs:

MAGNION-B
Une source magnétron balancée

MAGNION-UI
Une source magnétron non-balancée de type 1

MAGNION-UII
 Une source magnétron non-balancée de type 2

 
 
  Assemblages à un ou plusieurs magnétrons prêts pour l’installation  
 

Un magnétron sur divers types de supports

  

 

 

Systèmes à plusieurs cibles, incluant des unités hybrides avec sources plasma

 

 

 
  Différences entre les divers types de magnétrons  
 

 

Les trois catégories de magnétrons se distinguent par la configuration de leurs lignes de champ magnétique.
Le choix du magnétron peut influencer le processus de déposition.

Les magnétrons balancés, dans une très large mesure, confinent le plasma près de la surface de la cathode. Cela les rend utiles comme source générale pour la pulvérisation. Ils sont plus adaptés pour la déposition sur des polymères ou substrats qui requièrent d’être maintenus à une basse température de déposition.

Les magnétrons non-balancés présentent des lignes de champ ouvertes permettant aux électrons de s’échapper de la zone de confinement du plasma (expansion du plasma). L’interaction du plasma en expansion avec le substrat influence les caractéristiques du dépôt.

Configurations typiques du champ magnétique pour les divers types de magnétron

 
           Magnétron Balancé              Magnétron non-balancé (Type 2)      Magnétron non-balancé (Type 1)



  
  Si vous n’êtes pas sûrs du type de magnétron adapté à vos applications, contactez-nous. Nous pouvons aussi concevoir sur mesure des magnétrons satisfaisant vos besoins spécifiques..

 
  Conception de magnétrons pour une efficacité élevée d’utilisation de la cible  
 



La configuration du champ magnétique influence aussi l’efficacité d’utilisation de la cible.

Nos magnétrons non-balancés sont conçus pour produire des taux élevés d’utilisation de la cible. Par exemple pour une petite cathode de 2" (non-balancé Type 2) un taux d’utilisation excédant 50% est atteint. Des cibles de plus grand diamètre donnent une efficacité d’utilisation beaucoup plus élevée.

  

Exemple du profil d’utilisation d’une cible en cuivre de diamètre 2 pouces et d’épaisseur 1/4 pouce utilisée avec un magnétron conçu pour un haut taux d’utilisation de la cible.